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真空電鍍法是在真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發,冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法:可以利用電阻產生的熱能,也可以利用電子束。
在對塑料制品實施蒸鍍時,為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形,必須對蒸鍍時間進行調整。此外,熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內,采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa,對于蒸發源與被鍍制品和薄膜質量要求很高的場合,則要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附著力差,易脫落。厚度0.04時反射率為90%。