真空電鍍是用于在固體表面上逐原子或逐分子沉積材料層的一系列工藝。這些過程在遠低于大氣壓(即真空)的壓力下操作。沉積的層的厚度可以從一個原子的厚度到毫米不等，形成獨立的結構。可以使用多層不同的材料，例如形成光學涂層。

　真空(kong)離子(zi)鍍適用(yong)于(yu)(yu)ABS材料(liao)和(he)PC材料(liao)等產(chan)品，主要包括真空(kong)蒸發(fa)濺(jian)射濺(jian)射和(he)離子(zi)鍍。 它們(men)均用(yong)于(yu)(yu)在真空(kong)條件(jian)下通過蒸餾或(huo)濺(jian)射在塑(su)料(liao)部件(jian)的(de)表(biao)面上沉(chen)積各種金(jin)屬和(he)非(fei)金(jin)屬薄(bo)膜。 這樣，可以(yi)獲得非(fei)常薄(bo)的(de)表(biao)面涂(tu)層，并(bing)且同時具(ju)有速度很高和(he)良好的(de)粘附性的(de)優(you)點。但是價格也比較貴(gui)(gui)，并(bing)且可以(yi)操作(zuo)的(de)金(jin)屬種類更少(shao)。 它們(men)通常用(yong)作(zuo)貴(gui)(gui)重產(chan)品的(de)功(gong)能涂(tu)料(liao)，例如內部屏蔽。

　　真(zhen)空環(huan)境可以(yi)用于一(yi)個或多個目的(de)：

　　降(jiang)低粒子(zi)密度，使碰撞的平均自由程長

　　降低不良原子(zi)和分子(zi)(污染物(wu))的(de)顆粒密度(du)

　　提(ti)供低壓(ya)等離(li)子(zi)體(ti)環(huan)境

　　提供控制氣體和(he)蒸氣成(cheng)分的方(fang)法

　　提供(gong)用于控制進入處理室(shi)的質量流(liu)量的裝(zhuang)置(zhi)。

應用領(ling)域：

　　導(dao)電(dian)(dian)：金屬(shu)膜，透(tou)明導(dao)電(dian)(dian)氧化物(TCO)，超導(dao)膜和涂層

　　半(ban)導體器(qi)件(jian)：半(ban)導體膜，電絕緣膜

　　太陽能(neng)電池。

　　光(guang)學膜(mo)：抗反射涂層，濾光(guang)片

　　反(fan)光(guang)涂料：鏡子，熱鏡

　　摩擦涂(tu)(tu)層：硬質涂(tu)(tu)層，抗腐蝕涂(tu)(tu)層，固體膜(mo)潤滑劑

　　節能與發電(dian)：低(di)輻(fu)射率玻璃涂(tu)料(liao)，太陽能吸收(shou)涂(tu)料(liao)，鏡(jing)子，太陽能薄膜光(guang)伏電(dian)池，智(zhi)能薄膜

　　磁性膜：磁性記錄(lu)

　　擴散壁(bi)壘(lei)：氣(qi)體滲透壁(bi)壘(lei)，蒸氣(qi)滲透壁(bi)壘(lei)，固(gu)態擴散壁(bi)壘(lei)

　　防(fang)腐蝕保(bao)護：

　　汽(qi)車(che)應用：燈(deng)反射(she)器和裝(zhuang)飾應用

　　小于(yu)一微米(mi)的(de)厚度通常(chang)稱為(wei)薄膜，而大于(yu)一微米(mi)的(de)厚度稱為(wei)涂層。